本文標題："黏土礦物成份和結構的特征-礦顯微鏡"
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Ｘ光粉末繞射
黏土礦物成份和結構上大的特征反映在其d（00l）晶面間距之變化，這也是鑑定或偵測其變化的主要依據，
而Ｘ光粉末繞射是分析這種變化佳的方法。因此本計畫即以Ｘ光粉末繞射的方法分析黏土礦物的種類、混層比例和有序性、
以及鑑定黏土礦物中是否含有NH4+或其它層間物質。
(1) 取樣：巖心采集由主計畫統籌規劃海研一號697及718航次采集箱式及活塞巖心(3寸直徑)，
選擇了G1、G3、G4、G5A、G6、G15、G17、G22、G23、G24、N4、N6、N9及N13等14測站14個沉積物箱型巖心標本，
以及A-P1、B-P1、C-P1、D-P1、G1-P1、G2-P2、G3-P1、G4-P1、G5A-P1、G6-P1、G10-P1、G15-P1、G17-P1、G19-P1、G21-P1、G22-P1、G23-P1、G24-P1
N4-P1、N6-P1、N9-P1及N13-P1等22測站140個沉積物活塞巖心標本，進行分析。活塞巖心原則上每50公分深度取樣5公分厚度之沉積物，
各測站標本之基本資料列于表
(2) 標本保存：以瓶封置冷藏柜保持在4°C。
(3) 順向試片制作：試樣經蒸餾水清洗可溶性鹽類，標本因富含有機質或碳酸鹽礦物，而可能干擾黏土礦物之分離，
研究依Kunze and Dixon（1986）之化學方法除去之；碳酸鹽以醋酸鈉去除之，碳物質則以雙氧水去除之。處理后之標本以高速控溫離心機清洗并分離＜2 ?m之物質，
其后再進行鎂飽和處理、清洗及離心收集等步驟，后再略稀釋后以滴管滴置于玻璃片靜置風乾。
這些方法經本研究測試結果顯示并未對銨云母或其他黏土礦物有破壞其特征之現象。
(4) 試片處理：前述風乾順向試片經取得Ｘ光繞射圖后，再經乙二醇飽和處理，另取得乙二醇處理后之Ｘ光繞射圖。
(5) 繞射實驗：分別進行各項順向試片之Ｘ光繞射實驗，以CuKα Ｘ光光源取得2-35°2θ?范圍之繞射圖。
實驗儀器使用成功大學地球科學系Rigaku 4056A2 B2701 Ｘ光繞射儀，實驗條件采用30 kV電壓、20 mA電流、鎳濾波片、1°
分散狹縫、0.1°接收狹縫、1°反散射狹縫、每分鐘1°2θ掃瞄速度及0.01°2?行進間距。
(6) 資料分析：黏土礦物之鑑定參考Moore and Reynolds（1989）分析所取得之Ｘ光粉末繞射圖，
晶面間距為~1.7 nm (~5°2θ)、~1.0 nm (~8.9°)和~0.7 nm (~12.5°)之繞射峰分別用以鑑定膨潤石、
伊萊石和綠泥石。原預定使用混層黏土礦物之比例及有序性將另配合R. C. Reynolds, Jr.之Newmod之Ｘ光粉末繞射模擬計算軟體進行分析，
但因所研究之標本以膨潤石、伊萊石及綠泥石為主，并未采用
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