本文標題："光纖光柵簡介-實驗室光學儀器廠家"

光纖光柵的簡介

入射光與另一端面之反射光于纖核( Core )內部相互干涉形成駐波，

透過光纖對光的吸收性造成纖核內部產生折射率週期性變化，而形成光纖光柵，其寫制架構。

但是以這種方式所寫制出來的光纖光柵之折射率變化很小，

其主要原因是由于光纖的軸向孔徑太小，造成雷射光之能量不

能夠全部進入到纖核內部，且在制作的過程當中很容易受到外在環境的

干擾而影響到所寫制出光纖光柵的特性，因此此一方法并不理想。

利用兩道雷射光從光纖的側面照射形成干涉條紋寫制光纖光柵的方式，

這方法不僅使寫制光纖光柵的效率明顯的改善了許多，

并可以藉由調整兩道雷射光的夾角來改變光纖內部之光柵週期，所以很快的在業界跟學界得到很大的共鳴，

不過，此法有一缺點就是架設的過程十分複雜且精細，因此，必須特別注意系統

架構的穩定度，以避免受外界因素的干擾而造成失敗。

提出利用相位光罩(Phase Mask)的方式來寫制光纖光柵，

這個方法的優點主要是由于儀器的架設簡單、操作容易且具有較高的穩定性和實用性。

使用相位光罩法寫制光纖光柵，如須寫制出特定波長光纖光柵，則必須透過更換特定週期

的相位光罩，寫制出所需的波長。相位光罩法目前不管在學界或在業界

已被廣泛使用，并且適合業界大量生產光纖光柵或光纖被動元件之使

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