本文標題："電子顯微鏡觀察非導(dǎo)電性材料試片拋光簡介"
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化學(xué)拋光
化學(xué)拋光對于非導(dǎo)電性材料特別有效，其可以運用在視窗技術(shù)與電解拋光上，而不需要
使用電極。
離子噴濺法
離子噴濺法可用以減薄脆性或非導(dǎo)電性材料試片。離子在 3~6KV
的電壓加速下衝撞試片，而將試片上的原子或分子打出。減薄的速率和離子與試片原子的相
對質(zhì)量、離子能量、試片的晶體構(gòu)造、離子束入射角度等有關(guān)。氬由于價格合理，且是能形
成離子的鈍氣中質(zhì)量重的，因此被普遍使用。
在減薄的初步階段應(yīng)選擇具有大減薄率的離子入射角，但稍后應(yīng)減緩減薄率，以減小
試片受到的損害。此外，在化學(xué)拋光或電解拋光時所產(chǎn)生的氧化物，方可用短暫的離子束減
薄來加以消除。離子噴濺法易在試片表面誘生孔洞、差排，且對于雙相材料，可能產(chǎn)生不平
整的表面，此為其缺點
1.需要較高解析度時(小于 100 埃)；
2.試片容易為電子束所破壞：
3.需抽取顆粒加以識別
二段複制法
此法適用于複制較粗糙的表面。先在試片表面滴附丙酮，再小心地放下醋酸纖維素(可溶于丙
酮)。在十分鏈內(nèi)表面形成醋酸酯薄膜，隨后將其取下，在原先接觸試片的那一面鍍上 100~200
埃厚的碳膜后，置于氯仿(Chloroform)中溶去高分子膜，留下碳膜，經(jīng)水洗、乾燥后即可使用
于觀察。
萃取複制(Extraction Replicas)
此法常應(yīng)用于識別或計算金屬、陶瓷或玻璃系統(tǒng)中的析出物。首先將試片表面加以腐蝕，以
顯露顆粒。按著以前述的一段複制法在試片表面沉積一層碳膜。后再進行腐蝕，將碳膜連
同顆粒一起剝離試片表面
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